注意:因業務調整,暫不接受個人委托測試望見諒。
掃描電子顯微鏡(SEM)檢測是一種基于電子束與樣品表面相互作用的微觀形貌與成分分析技術,廣泛應用于材料科學、電子器件、生物醫學等領域。第三方檢測機構通過SEM檢測服務,可為客戶提供樣品表面形貌、元素分布、微觀結構等關鍵信息,助力產品質量控制、失效分析及研發優化。檢測的重要性在于其高分辨率成像能力(可達納米級)及成分分析的精準性,對于確保材料性能、工藝穩定性及產品可靠性具有不可替代的作用。
表面形貌分析,元素成分定性及定量分析,微觀結構觀察,粒徑分布統計,能譜(EDS)面掃描,線掃描分析,晶體取向分析,斷面形貌表征,鍍層厚度測量,孔隙率計算,污染物成分鑒定,材料失效微觀機制分析,納米顆粒分散性評估,纖維直徑測量,涂層均勻性檢測,界面結合狀態觀察,腐蝕產物分析,微觀缺陷定位,生物樣品表面形貌重構,三維重構成像。
金屬材料,半導體器件,陶瓷材料,高分子聚合物,納米顆粒,復合材料,電子元件,涂層與鍍層,生物組織,礦物樣品,纖維材料,薄膜材料,粉末冶金制品,鋰電池材料,光伏材料,催化劑,微電子封裝材料,地質樣品,化石標本,醫療器械表面。
二次電子成像(表面形貌高分辨率成像),背散射電子成像(成分對比度分析),能譜分析(元素成分定性定量),電子背散射衍射(晶體結構分析),低真空模式(非導電樣品無需鍍膜),場發射模式(超高分辨率成像),斷面制樣法(內部結構觀察),能譜線掃描(元素分布曲線),能譜面掃描(元素分布二維成像),動態聚焦模式(大視野清晰成像),電荷補償技術(抑制樣品荷電效應),低溫冷凍制樣(生物樣品結構保留),離子束切割(精準斷面制備),能譜定量分析(無標樣/有標樣校準),三維重構(多角度成像合成)。
掃描電子顯微鏡(SEM),能譜儀(EDS),電子背散射衍射儀(EBSD),離子濺射儀,臨界點干燥儀,低溫樣品臺,聚焦離子束(FIB)系統,能譜定量分析軟件,三維重構軟件,場發射電子槍(FEG),低真空探測器,背散射電子探測器,樣品鍍膜機,能譜校準標樣,環境掃描電子顯微鏡(ESEM)。
1.具體的試驗周期以工程師告知的為準。
2.文章中的圖片或者標準以及具體的試驗方案僅供參考,因為每個樣品和項目都有所不同,所以最終以工程師告知的為準。
3.關于(樣品量)的需求,最好是先咨詢我們的工程師確定,避免不必要的樣品損失。
4.加急試驗周期一般是五個工作日左右,部分樣品有所差異
5.如果對于(掃描電子顯微鏡檢測)還有什么疑問,可以咨詢我們的工程師為您一一解答。
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